تفاوت بین بستر کاربید سیلیکون و ویفر

ویفر به ویفر سیلیکونی گفته می شود که برای ساخت مدارهای نیمه هادی سیلیکونی استفاده می شود و ماده اولیه آن سیلیکون است. سیلیکون پلی کریستالی با خلوص بالا حل شده و با دانه های کریستال سیلیکون مخلوط می شود و سپس به آرامی بیرون کشیده می شود تا سیلیکون تک کریستالی استوانه ای شکل بگیرد. پس از اینکه شمش سیلیکون آسیاب، صیقل و برش شد، یک ویفر سیلیکونی، یعنی ویفر را تشکیل می دهد.
در حال حاضر خطوط تولید ویفر داخلی عمدتاً 8-اینچ و 12-اینچ هستند. کاربید سیلیکون یک ماده معدنی با فرمول شیمیایی SiC است که در دمای بالا در یک کوره مقاوم با مواد اولیه مانند ماسه کوارتز، کک نفتی (یا کک زغال سنگ)، تراشه های چوب (نمک برای تولید کاربید سیلیکون سبز لازم است) ذوب می شود. ). مواد بستر کاربید سیلیکون عمدتاً در قطعات برق در شبکه های هوشمند، حمل و نقل ریلی، وسایل نقلیه الکتریکی، اتصال به شبکه انرژی جدید، منابع تغذیه سوئیچینگ، موتورهای صنعتی و لوازم خانگی استفاده می شود.