Ningbo Sibranch Microelectronics Technology Co.,Ltd.: سازنده ویفر سیلیکونی 300 میلی متری قابل اعتماد شما!
Sibranch Microelectronics در سال 2006 توسط دانشمند علوم و مهندسی مواد در نینگبو، چین تأسیس شد و هدف آن ارائه ویفر و خدمات نیمه هادی در سراسر جهان است. محصولات اصلی ما شامل ویفرهای سیلیکونی استاندارد SSP (یک طرف پولیش)، DSP (دو طرف پولیش)، ویفرهای سیلیکونی آزمایشی و ویفرهای سیلیکونی اولیه، ویفرهای SOI (سیلیکون روی عایق) و ویفرهای رول سکه ای با قطر تا 12 اینچ، CZ/MCZ /FZ/NTD، تقریباً هر جهت، برش قطع، مقاومت بالا و پایین، ویفرهای فوقالعاده تخت، بسیار نازک، ضخیم و غیره.
خدمات پیشرو
ما متعهد هستیم که دائماً محصولات خود را نوآوری کنیم تا تعداد زیادی از محصولات با کیفیت بالا را به مشتریان خارجی ارائه دهیم تا از رضایت مشتری فراتر رود. ما همچنین می توانیم خدمات سفارشی را با توجه به نیاز مشتریان مانند اندازه، رنگ، ظاهر و غیره ارائه دهیم. ما می توانیم مطلوب ترین قیمت و محصولات با کیفیت بالا را ارائه دهیم.
کیفیت تضمین شده
ما به طور مداوم در حال تحقیق و نوآوری برای پاسخگویی به نیازهای مشتریان مختلف بوده ایم. در عین حال، ما همیشه به کنترل کیفیت دقیق پایبند هستیم تا اطمینان حاصل کنیم که کیفیت هر محصول مطابق با استانداردهای بین المللی است.
کشورهای فروش گسترده
ما بر فروش در بازارهای خارج از کشور تمرکز می کنیم. محصولات ما به اروپا، آمریکا، آسیای جنوب شرقی، خاورمیانه و سایر مناطق صادر می شود و مشتریان در سراسر جهان با استقبال خوبی مواجه می شوند.
انواع مختلف محصولات
شرکت ما خدمات پردازش ویفر سیلیکونی سفارشی را ارائه می دهد که متناسب با نیازهای خاص مشتریان ما باشد. اینها عبارتند از Si Wafer BackGrinding، Dicing، DownSizing، Edge Grinding و همچنین MEMS از جمله. ما در تلاش هستیم تا راه حل های سفارشی ارائه دهیم که فراتر از انتظارات باشد و رضایت مشتری را تضمین کند.
ویفر سیلیکونی CZ از شمش های سیلیکونی تک کریستالی برش داده شده با استفاده از روش رشد Czochralski CZ، که به طور گسترده در صنعت الکترونیک برای رشد کریستال های سیلیکون از شمش های سیلیکونی استوانه ای بزرگ استفاده می شود برای ساخت دستگاه های نیمه هادی استفاده می شود. در این فرآیند، یک دانه سیلیکونی کریستالی دراز با تحمل جهت گیری دقیق به یک حوضچه مذاب سیلیکونی با دمای دقیق کنترل شده وارد می شود. کریستال دانه به آرامی از مذاب با سرعت کاملاً کنترل شده به سمت بالا کشیده می شود و انجماد کریستالی اتم های فاز مایع در سطح مشترک رخ می دهد. در طی این فرآیند کشش، کریستال بذر و بوته در جهت مخالف می چرخند و یک سیلیکون تک کریستالی بزرگ با ساختار بلوری کامل دانه را تشکیل می دهند.
ویفر اکسید سیلیکون یک ماده پیشرفته و ضروری است که در صنایع و کاربردهای مختلف با تکنولوژی بالا استفاده می شود. این یک ماده کریستالی با خلوص بالا است که با پردازش مواد سیلیکونی با کیفیت بالا تولید میشود و آن را به یک بستر ایدهآل برای بسیاری از انواع مختلف کاربردهای الکترونیکی و فوتونیکی تبدیل میکند.
ویفرهای ساختگی (که به عنوان ویفر آزمایشی نیز نامیده می شود) ویفرهایی هستند که عمدتاً برای آزمایش و آزمایش استفاده می شوند و با ویفرهای عمومی برای محصول متفاوت هستند. بر این اساس، ویفرهای احیا شده بیشتر به عنوان ویفرهای ساختگی (ویفرهای آزمایشی) استفاده می شوند.
ویفرهای سیلیکونی با روکش طلا و تراشه های سیلیکونی با روکش طلا به طور گسترده به عنوان بستر برای توصیف تحلیلی مواد استفاده می شوند. به عنوان مثال، موادی که بر روی ویفرهای با روکش طلا قرار گرفته اند را می توان از طریق بیضی سنجی، طیف سنجی رامان یا طیف سنجی فروسرخ (IR) به دلیل بازتابی بالا و خواص نوری مطلوب طلا تجزیه و تحلیل کرد.
ویفرهای اپیتاکسیال سیلیکونی بسیار متنوع هستند و میتوانند در اندازهها و ضخامتهای مختلف برای مطابقت با نیازهای مختلف صنعت تولید شوند. آنها همچنین در کاربردهای مختلفی از جمله مدارهای مجتمع، ریزپردازنده ها، حسگرها، الکترونیک قدرت و فتوولتائیک استفاده می شوند.
با استفاده از آخرین فناوری تولید شده و برای ارائه قابلیت اطمینان و ثبات بی نظیر در عملکرد طراحی شده است. اکسید حرارتی خشک و مرطوب یک ابزار ضروری برای تولید کنندگان نیمه هادی در سرتاسر جهان است زیرا راهی کارآمد برای تولید ویفرهای با کیفیت بالا است که تمام نیازهای مورد نیاز صنعت را برآورده می کند.
این ویفر دارای قطر 300 میلی متر است که آن را بزرگتر از اندازه های سنتی ویفر می کند. این اندازه بزرگتر آن را مقرون به صرفهتر و کارآمدتر میکند و اجازه میدهد خروجی بیشتری تولید کند بدون اینکه کیفیت را به خطر بیندازد.
ویفر سیلیکونی 100 میلی متری محصولی با کیفیت است که به طور گسترده در صنایع الکترونیک و نیمه هادی ها استفاده می شود. این ویفر برای ارائه عملکرد بهینه، دقت و قابلیت اطمینان که در ساخت دستگاه های نیمه هادی ضروری است، طراحی شده است.
ویفر سیلیکونی 200 میلی متری نیز در کاربردهای خود همه کاره است و کاربردهایی در تحقیق و توسعه و همچنین در تولید با حجم بالا دارد. میتوان آن را مطابق با مشخصات دقیق شما، با گزینههایی برای ویفرهای نازک یا ضخیم، سطوح صیقلی یا صیقلنشده، و سایر ویژگیها بر اساس نیازهای خاص شما سفارشی کرد.
ویفر سیلیکونی 300 میلی متری چیست؟
ویفر سیلیکونی 300 میلی متری ماده ای ضروری برای تولید نیمه هادی ها است که در انواع وسایل الکترونیکی یافت می شود که زندگی ما را غنی می کند. و آن را به مسطح ترین شی در جهان تبدیل می کند. همچنین فوق العاده تمیز است و تقریباً عاری از ریزذرات و سایر ناخالصی ها است. این ویژگی ها ضروری هستند تا بتوان از آن به عنوان ماده زیرلایه نیمه هادی های پیشرفته امروزی استفاده کرد.
مزایای ویفر سیلیکونی 300 میلی متری
قابلیت اطمینان
ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری در کاربردهای مختلف قابل اعتماد هستند و می توانند در برابر دماهای بالا بدون کاهش کیفیت سیگنال یا قدرت مقاومت کنند. این بدان معناست که عملکرد بهتری خواهید داشت و از ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری خود برای سال های متمادی با خرابی کمتر نسبت به سایر دستگاه ها استفاده خواهید کرد.
مقیاس پذیری
میتوانید به راحتی ویفرهای سیلیکونی 300 میلیمتری را برش دهید، پوست بگیرید، تاس کنید و به هر اندازهای متناسب با نیازهای کاربردی خود شکل دهید. اگر سیلیکون دارای ورق های قطری است، می توانید از آنها استفاده کنید یا آنها را به قطعات کوچکتر که مطابق با مشخصات پروژه شما هستند تقسیم کنید.
تولید سریع
فرآیند ساخت ویفرهای سیلیکونی 300 میلیمتری برای هر اندازه، شکل یا نیازی سریع و آسان است. ویفرهای سیلیکونی 300 میلیمتری به راحتی برش داده میشوند، برش داده میشوند و به هر اندازهای که برای نیاز شما نیاز است، شکل میدهند.
ساخت ویفر سیلیکونی 300 میلی متری با سرعت بالا
ساخت ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری با سرعت بسیار بالا در مقایسه با سایر محصولات و روش های ساخت بسیار آسان است. دستگاه هایی که از این ویفرها استفاده می کنند به سرعت بالا و همچنین هزینه تولید پایین نیاز دارند زیرا برای طیف گسترده ای از کاربردهایی که نیاز به دقت بالایی دارند مانند ابزار دقیق، ارتباطات و میکروالکترونیک استفاده می شود.
خواص ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری
ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری دارای ترکیبی منحصر به فرد از خواص فیزیکی و شیمیایی هستند که آنها را برای استفاده در صنعت فناوری ایده آل می کند. این ویژگی ها شامل هدایت الکتریکی، هدایت حرارتی و مقاومت مکانیکی و غیره است. درک این ویژگی ها برای طراحی و ساخت دستگاه های الکترونیکی ضروری است، زیرا آنها به طور مستقیم بر عملکرد و قابلیت اطمینان دستگاه ها تأثیر می گذارند.
خواص الکتریکی
یکی از مهمترین خواص ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری رسانایی الکتریکی آنهاست. سیلیکون یک نیمه هادی است، به این معنی که رسانایی الکتریکی آن بین رسانایی الکتریکی مانند مس و یک عایق مانند شیشه قرار دارد. خواص الکتریکی سیلیکون را می توان با وارد کردن مقادیر کمی ناخالصی، فرآیندی که به عنوان دوپینگ شناخته می شود، دقیقاً کنترل کرد.
دوپینگ شامل افزودن عناصر اهداکننده الکترون مانند فسفر یا آرسنیک یا عناصر پذیرنده الکترون مانند بور یا آلومینیوم است. ورود این ناخالصی ها باعث ایجاد بیش از حد یا کمبود الکترون در شبکه سیلیکونی می شود که در نتیجه به ترتیب سیلیکون نوع n یا p ایجاد می شود. ورود کنترل شده این ناخالصی ها امکان ایجاد خواص الکتریکی خاص در ویفر سیلیکونی 300 میلی متری را فراهم می کند که برای ساخت دستگاه های نیمه هادی ضروری است.
توانایی کنترل خواص الکتریکی ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری برای توسعه دستگاه های الکترونیکی مانند ترانزیستورها، دیودها و مدارهای مجتمع بسیار مهم است. این دستگاه ها بر کنترل دقیق جریان الکتریکی تکیه می کنند که با خواص الکتریکی منحصر به فرد ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری امکان پذیر شده است. عملکرد، کارایی و قابلیت اطمینان دستگاه های الکترونیکی به طور مستقیم تحت تأثیر کیفیت و قوام ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری مورد استفاده در ساخت آنها است.
خواص حرارتی
ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری همچنین خواص حرارتی منحصر به فردی را نشان می دهند که برای عملکرد آنها در دستگاه های الکترونیکی بسیار مهم است. یکی از خواص حرارتی کلیدی سیلیکون رسانایی حرارتی آن است که معیاری برای سنجش توانایی یک ماده برای هدایت گرما است. سیلیکون رسانایی حرارتی نسبتاً بالایی دارد، حدود 149 W/m·K در دمای اتاق. این ویژگی در دستگاه های الکترونیکی بسیار مهم است، زیرا اجازه می دهد تا گرمای تولید شده در حین کار به طور موثر دفع شود و در نتیجه از گرمای بیش از حد جلوگیری شود و اطمینان و طول عمر دستگاه تضمین شود.
یکی دیگر از خواص حرارتی مهم سیلیکون ضریب انبساط حرارتی آن (CTE) است که میزان انبساط یا انقباض مواد را با تغییرات دما اندازه گیری می کند. سیلیکون CTE نسبتاً پایینی دارد، حدود 2.6 میکرومتر/(m·K) در دمای اتاق. این بدان معنی است که ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری با تغییرات دما به طور قابل توجهی منبسط یا منقبض نمی شوند که در ساخت و عملکرد دستگاه های الکترونیکی مهم است. تغییرات بزرگ ابعاد با دما می تواند منجر به تنش های مکانیکی و خرابی احتمالی دستگاه شود.
خواص حرارتی ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری نه تنها برای عملکرد دستگاه هایی که برای تولید آنها استفاده می شود، بلکه برای خود فرآیند ساخت نیز مهم است. بسیاری از مراحل در فرآیند ساخت، مانند دوپینگ و رشد اکسید، شامل دمای بالا هستند. رسانایی حرارتی بالا و CTE پایین ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری اجازه می دهد تا این فرآیندها به طور موثر و بدون ایجاد تنش های مکانیکی در ویفر انجام شوند.
ویفر سیلیکونی 300 میلی متری برای چه مواردی استفاده می شود؟
نیمه هادی
با وجود اینکه رساناهای دیگر در کاربردهای خاص تری استفاده می شوند، سیلیکون بهترین و پرکاربردترین نیمه هادی است به دلیل تحرک بسیار زیاد آن هم در دماهای بالا و هم در دمای اتاق. چیزی که سیلیکون را به گزینهای برجسته در دستگاههای الکترونیکی تبدیل میکند این است که جریان الکتریکی آن میتواند از هادیهای سیلیکونی بسیار سریعتر در مقایسه با رساناهای دیگر عبور کند.
ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری در دستگاه های الکترونیکی
نیمه هادی هایی مانند ویفر سیلیکونی 300 میلی متری را می توان در تولید تراشه ها و ریزتراشه ها در گجت های الکترونیکی استفاده کرد. با توجه به منحصربفرد بودن جریان های الکتریکی از طریق ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری، از این نیمه هادی ها در ایجاد IC ها (مدارهای مجتمع) استفاده می شود. آی سی ها به عنوان دستوراتی برای اقدامات خاص در دستگاه های الکترونیکی مختلف عمل می کنند.
ویفر سیلیکونی 300 میلی متری عنصر اصلی در مدارهای مجتمع است. به بیان ساده، مدارهای مجتمع ترکیبی از انواع عناصر الکترونیکی هستند که برای انجام یک عملکرد خاص در کنار هم قرار گرفته اند. سیلیکون پلت فرم کلیدی برای ابزارهای نیمه هادی است. ویفر فقط یک برش نازک از مواد نیمه هادی است که به عنوان یک زیرلایه برای دستگاه های میکروالکترونیک نصب شده در داخل و بالای ویفر عمل می کند. حتی اگر ارتباط ویفرهای سیلیکونی 300 میلیمتری با دستگاههای فنآوری خاص که افراد فقط رویای آن را دارند ساده باشد، ویفرهای سیلیکونی 300 میلیمتری بسیار نزدیکتر از آن چیزی هستند که هر کسی فکر میکند! ویفرهای سیلیکونی 300 میلیمتری در رایانهها، تلفنهای هوشمند و دستگاههای تلفن همراه و حتی در سیستم سنسور فشار تایر استفاده میشوند. ساخت ویفر سیلیکونی 300 میلی متری بخش فوق العاده حیاتی در ایجاد و گسترش طیف گسترده ای از پیشرفت های تکنولوژیکی است.
در سلول های خورشیدی
ویفرهای سیلیکونی 300 میلیمتری نقش مهمی در تولید سلولهای خورشیدی دارند که اجزای کلیدی پنلهای خورشیدی هستند که برای مهار انرژی خورشیدی استفاده میشوند. سلول های خورشیدی که به عنوان سلول های فتوولتائیک نیز شناخته می شوند، نور خورشید را مستقیماً از طریق اثر فتوولتائیک به الکتریسیته تبدیل می کنند. این فرآیند شامل تولید جریان الکتریسیته در یک ماده پس از قرار گرفتن در معرض نور است. اکثر سلول های خورشیدی به دلیل خواص نیمه هادی عالی از سیلیکون ساخته شده اند. توانایی سیلیکون در جذب نور خورشید و ماهیت نیمه هادی آن، آن را به یک ماده ایده آل برای سلول های خورشیدی تبدیل می کند. هنگامی که نور خورشید به ویفر سیلیکونی 300 میلی متری در یک سلول خورشیدی برخورد می کند، الکترون ها را تحریک می کند و باعث حرکت آنها و ایجاد جریان الکتریکی می شود.
دو نوع اصلی سیلیکون مورد استفاده در سلول های خورشیدی وجود دارد: سیلیکون تک کریستالی و پلی کریستال. سیلیکون تک کریستالی از یک ساختار تک بلوری ساخته شده است که امکان جریان آزاد و بدون مانع الکترون ها را فراهم می کند و در نتیجه کارایی بالایی دارد. از سوی دیگر، سیلیکون پلی کریستالی از ساختارهای کریستالی متعددی ساخته شده است که می تواند جریان الکترون ها را مختل کند و منجر به راندمان کمتر شود، اما تولید آن ارزان تر است.
تولید ویفرهای سیلیکونی 300 میلیمتری برای سلولهای خورشیدی شامل فرآیندهای مشابه با فرآیندهای مورد استفاده در صنعت نیمهرسانا، از جمله برش ویفر و پرداخت است. با این حال، ویفرهای مورد استفاده در سلول های خورشیدی معمولاً ضخیم تر و خالص تر از آنهایی هستند که در صنعت نیمه هادی استفاده می شود. علیرغم این تفاوتها، ویژگیهای اساسی ویفرهای سیلیکونی 300 میلیمتری، از جمله خواص الکتریکی و حرارتی آنها، آنها را به یک جزء ضروری در تولید سلولهای خورشیدی تبدیل میکند.
سایر موارد استفاده از ویفرهای سیلیکونی 300 میلی متری
ویفرهای سیلیکونی 300 میلیمتری فوقالعاده خالص، یک بوم بکر را ارائه میدهند که بر روی آن میتوان مدار مجتمع مرکزی تمام لوازم الکترونیکی را ساخت. موارد استفاده عبارتند از:
ریزپردازنده ها - تراشه های مرکزی که کامپیوترها و گوشی های هوشمند را تامین می کنند
حافظه DRAM و فلش - میلیاردها سلول حافظه مبتنی بر سیلیکون روی تراشه ها
سنسورهای CMOS - حسگرهای تصویری که نور را در دوربین گوشیهای هوشمند و موارد دیگر میگیرند
دستگاه های قدرت - طرح های تخصصی مدیریت برق در سیستم ها
MEMS - سیستم های سیلیکونی مکانیکی و الکترومکانیکی کوچک
مدارهای نوری - موجبرها و دستگاه های فوتونیک اپتیک را یکپارچه می کنند
سوالات متداول
چرا ما را انتخاب کنید
محصولات ما منحصراً از پنج تولید کننده برتر جهان و کارخانه های داخلی پیشرو تهیه می شود. پشتیبانی توسط تیم های فنی داخلی و بین المللی بسیار ماهر و اقدامات کنترل کیفیت دقیق.
هدف ما ارائه پشتیبانی یک به یک جامع به مشتریان، تضمین کانالهای ارتباطی هموار حرفهای، به موقع و کارآمد است. ما حداقل مقدار سفارش را ارائه می دهیم و تحویل سریع را در 24 ساعت تضمین می کنیم.
نمایش کارخانه
موجودی گسترده ما از 1000+ محصولات تشکیل شده است که اطمینان حاصل می کند که مشتریان می توانند فقط برای یک قطعه سفارش دهند. تجهیزات متعلق به خود ما برای خرد کردن و سنگ زنی، و همکاری کامل در زنجیره صنعتی جهانی، ما را قادر می سازد حمل و نقل سریع را برای اطمینان از رضایت و راحتی مشتری یک مرحله ای انجام دهیم.
گواهی ما
شرکت ما به گواهینامههای مختلفی که به دست آوردهایم، از جمله گواهی ثبت اختراع، گواهی ISO9001 و گواهینامه ملی شرکت فناوری پیشرفته، افتخار میکند. این گواهینامه ها نشان دهنده تعهد ما به نوآوری، مدیریت کیفیت و تعهد به تعالی است.
تگ های محبوب: ویفر سیلیکونی 300 میلی متر، تولید کنندگان، تامین کنندگان، ویفر سیلیکونی 300 میلی متری چین
